一、系統概述
 
多晶矽還原爐體及鍾罩幹式清理系統适用硅烷法多晶硅生产工艺，用于还原车间反应釜中硅污染物附着力不大的工况条件下无污染干式清洗。清洗时利用上下移动和旋转机构带动高压气体喷吹以及特殊旋转刷组合机构近距离对反应釜表面进行喷吹和接触式清扫达到清洗的目的。通过清洗旋转调速机构可满足各工况的要求。清洗的同时采用特殊除尘净化器一次性进行除尘净化。

二、系統特點

1、裝置爲移動單元式結構；

2、淨化後的空氣可達到10萬級的淨化精度可完全在室內排放；

3、采用全封閉幹式的清洗方式確保對環境不出現二次汙染；

4、电气设计按隔爆的各项要求执行、 设备设有静电导出装置；

5、控制方式可爲全自動或手動控制；

6、運行總功率小，噪聲低。
 
三、清掃工藝

反應釜吊裝至清洗台上→定位→連接→啓動淨化器→啓動旋轉→上下移動機構→高壓氣體沿壁噴吹→旋轉刷至上而下接觸移動清掃→淨化氣體置換→反應釜吊起→檢查。

四、設備組成

主要由清洗平台、氣體噴吹裝置、吸塵輸送管道、控制閥門、動力機構、清洗機構、各管道快速接頭、除塵淨化器、電氣控制系統等組成。

主要部件采用進口零部件，確保運行可靠穩定、使用周期長。操作維修簡單。